半導(dǎo)體冷水機（Chiller）可以解決 4 大類問題
1、解決工藝溫度波動問題，保障良率
半導(dǎo)體制程屬于納米級加工，微小溫度漂移就會報廢晶圓，冷水機做高精度恒溫（常見 ±0.1℃，高端可達 ±0.01~±0.05℃）
光刻（DUV/EUV）：冷卻激光光源、物鏡、晶圓臺，防止光學(xué)鏡頭熱脹冷縮，避免套刻偏移、線寬失真
干法刻蝕：冷卻腔體、射頻電源、靜電卡盤，穩(wěn)定等離子體，保證刻蝕速率、形貌、選擇比一致，減少晶圓邊緣缺陷
PVD/CVD/ALD 薄膜沉積：控制腔壁與基座溫度，保證薄膜厚度、組分均勻，避免薄膜翹曲、針孔、色差
離子注入：冷卻離子源、加速器電極，穩(wěn)定離子束能量，保證注入深度均勻，防止硅片晶格損傷
CMP 化學(xué)機械拋光：控制拋光液與拋光墊溫度，穩(wěn)定拋光速率，保證晶圓全局平坦度
2、解決設(shè)備發(fā)熱過熱損壞問題，保護昂貴機臺
刻蝕、沉積、離子注入設(shè)備射頻電源、分子泵、電機、真空腔持續(xù)產(chǎn)熱：
及時帶走大功率熱源，防止密封件、電子元器件高溫老化變形
避免分子泵過熱抱死、真空泄露；降低昂貴半導(dǎo)體設(shè)備停機風(fēng)險
24h 不間斷連續(xù)運行，匹配 Fab 全年生產(chǎn)模式
3、解決潔凈、介質(zhì)腐蝕、高純度循環(huán)問題
半導(dǎo)體不能有雜質(zhì)污染晶圓，半導(dǎo)體專用冷水機區(qū)別普通工業(yè)冷水機：
密閉閉環(huán)循環(huán)，使用去離子水、氟化液（Galden），管路 PFA / 不銹鋼，低析出、低顆粒，避免污染晶圓腔室
防止結(jié)露：精密光學(xué)、真空部件低溫下控露點，杜絕凝露滴水污染腔體、短路設(shè)備
多回路獨立控溫：同一臺工藝設(shè)備腔體、電極、電源需要不同設(shè)定溫度，冷水機提供多路獨立溫控輸出
4、解決后道封裝與測試溫控需求
探針臺、測試機：提供高低溫環(huán)境，做芯片可靠性測試（-40℃低溫等），保證電學(xué)測試數(shù)據(jù)可重復(fù)
封裝回流焊、研磨減薄：冷卻主軸與載臺，防止硅片受熱開裂、封裝膠體變形
半導(dǎo)體冷水機不是簡單 “降溫”，是精密恒溫?zé)峁芾硐到y(tǒng)：穩(wěn)定制程溫度保證良率、帶走機臺熱量保護昂貴設(shè)備、提供高純無雜質(zhì)冷卻介質(zhì)、滿足多溫區(qū)獨立控溫，貫穿晶圓前道制造 + 后道封裝測試全流程。
江蘇康士捷機械設(shè)備有限公司半導(dǎo)體冷水機生產(chǎn)廠家，半導(dǎo)體冷水機多案例供參考。